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本文標題："光學面粗糙度產生平整的光學面且高度約10 μm"
新聞來源：未知 發布時間：2013-3-28 22:15:00 本站主頁地址：http://m.zulinpingtai.cn
光學面粗糙度產生平整的光學面且高度約10 μm
導光板的圖樣線寬尺寸約為3050μm。
傳統模具鋼的制作采用化學蝕刻鋼材或是精密切削加工方式，較容易產生品質不易控制的情形，
造成圖樣缺陷與不均勻的現象。 以LIGA 制程進行電鑄所得到的導光板複制模仁，其尺寸誤差的精準度達到0.25 μm，
且可控制均一的導光板圖樣，以及可控制光學面的粗糙度而產生平整的光學面且高度約10 μm的導光板複制模仁。
相較于其他導光板之翻模技術，其解析度將可大幅提高。
在鎳鐵合金電鍍中，鍍層成分及內應力受到電流密度、鍍液組成與鍍槽流動的影響。 高內應力將會造成鍍層破
裂、變形，而破壞微結構的完整性。
在電流密度為6 ASD 時，鍍層內應力約為0 kg/mm2，于是選此電流密度來進行導光板電鑄實驗。
在本電鑄實驗中，加入應力消除劑Saccharin 以降低鍍層
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