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本文標題："制造微電子IC產品的模型生產-光刻檢測便攜顯微鏡"
新聞來源：未知 發布時間：2016-9-1 14:30:45 本站主頁地址：http://m.zulinpingtai.cn
制造微電子IC產品的模型生產-光刻檢測便攜顯微鏡
普通的光刻方法之一被用來在硅或者是其他的底層上壓一層薄膜宋
制造模板。當模板的表面被蝕刻并且使硅烷化之后，液體PDMS前體就會
覆蓋模型并且通過連接通道聚合。然后，將人造橡膠從模板上剝掉，并
且放在底層上處理。帶有不同液體和懸浮液的PDMS壓印的濕潤過程在壓
印之前就完成了�？偟膩碚f，模型的深度大約在0．2到20um之間，最大
值由PDMS結構的可靠性所限制。接觸區域的寬度和面積在0．5到200gm
之間，間隔是由被壓印底層的膨脹和接觸之間的區域趨勢所決定的。如
果PDMS壓印附著于圓筒，軟光刻就可以用于翻滾方式。
用于制造微電子IC產品的模型生產和轉換包括一些有限的材料和相
關的處理。用于芯片的材料數量現在只有10個。銅連接、用于門隔離的
高電解質材料(k)和用于隔離內部連接線的低電解質材料都是新近加到I
C材料列表中的。在芯片生產時這些材料的處理步驟也需要10種之多。
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