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本文標(biāo)題："氧化層中機(jī)械微孔氣體斷口分析圖像顯微鏡"
新聞來源：未知 發(fā)布時(shí)間：2019-4-29 2:34:06 本站主頁(yè)地址：http://m.zulinpingtai.cn
氧化層中機(jī)械微孔氣體斷口分析圖像顯微鏡
的氧化過程如方程所述，氧化層中機(jī)械或熱荷載引入的內(nèi)部應(yīng)力引起
氧化層開裂，最終剝落，使內(nèi)層裸露的銀再次暴露到原子氧中。這個(gè)過程
不斷重復(fù)，直到銀完全被氧化。氧化銀非常脆弱且多孑L，氧化物和金屬的
體積比>2，介于氧化物與金屬之間。典型的氧化層剝落深度在0.5fim左右
。這種周期性的氧化物層剝落導(dǎo)致銀整體按線性方式退化。在相對(duì)較短的
航天飛機(jī)飛行任務(wù)中，銀在3～4.5弘m的深度層中發(fā)生退化，具體的深度取
決于表面與速度矢量的垂直度。
人們已建立一個(gè)氧化層模型來預(yù)測(cè)銀在ISS軌道周期中的原子氧氧化，
如圖3所示。高溫環(huán)境下氧化發(fā)展的機(jī)理是氧化層中的擴(kuò)散。擴(kuò)散受溫度調(diào)
控，在室溫下能觀察到大量氧化，這說明在低溫下金屬中也有一個(gè)不同的
氧化過程，或者至少是一個(gè)平行的氧化過程也在進(jìn)行，低溫下金屬的氧化
過程為微孔氣體流通。
微孔氣體運(yùn)輸可以通過數(shù)種機(jī)制來實(shí)現(xiàn)，包括自由分子流（Knudsen流
）、分子流、黏性流動(dòng)和表面擴(kuò)散。在非常低的壓力下，原子氧的平均自
由程比孑L的尺寸大，與孑L的內(nèi)壁碰撞的頻率比其他的原子氧之間的碰撞
頻率高。這一機(jī)制被稱為白由分子流機(jī)制。在低地球軌道處，氧原子的密
度大約是108原子/cm3，則平均自由程為10‘肚m，這遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于預(yù)期的孔隙
尺寸。
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