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本文標題："高分辨率光學測量圖像顯微鏡-光學分析"
新聞來源：未知 發布時間：2014-8-24 23:02:31 本站主頁地址：http://m.zulinpingtai.cn
高分辨率光學測量圖像顯微鏡-光學分析
高分辨率光學測量和結空間電荷技術都不能給出缺陷化學識別的信
息。這種信息通常是由電子自旋共振(ESR)結合其他方法得到的，例
如，當樣品用不同能量的單色光照射時，將ESR譜與缺陷的能量位置關
聯起來。由于對不同光子能量，ESR激活中心的光子感生的價電荷變化
有不同的時間關系，光發射率的能譜分布可以被測量并可以與從結空間
電荷技術,得到的譜進行比較。
另一個識別缺陷的技術是根據這樣的事實，即對于雜質的原子量小
于基質晶體的原子量時，雜質的振動頻率一般遠高于聲子頻譜。由于強
的空間局域化，這就會在紅外區產生具有尖銳的光譜吸收帶的振動模。
結合同位素摻雜，于是可以識別某些缺陷中的有關原子。
而且，利用局域振動模(LVM)光譜與微擾相結合，例如極化探測
光和單軸應力或靜壓應力，人們就可以測定絡合物缺陷的結構。正是強
有力的傅里葉變換光潛儀的發展，使得局域振動模光譜學的快速推廣成
為可能。
在元素和化合物半導體中已被成功研究的輕雜質的例子是氫、碳和
氧。局域振動模光譜學在工業上也用于硅和集成電路生產中的各個階段
的控制。
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