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本文標題："掩膜材料表面分析便攜式圖像顯微鏡廠商"
新聞來源：未知 發布時間：2018-10-1 23:19:34 本站主頁地址：http://m.zulinpingtai.cn
掩膜材料表面分析便攜式圖像顯微鏡廠商
曝光后堅膜
改善抗蝕劑抗蝕性能的另一種技術是曝光后堅膜。工藝步驟是=涂膠，
曝光，然后再將版子在90℃下烘lOmln。這一措施是為了防止抗蝕劑在顯影
期間的浮膠問題，其目的是為了提高抗蝕劑的抗蝕性能。曝光后堅膜對平
滑的掩膜材料表面來說更為有效。因為平滑的表面同抗蝕劑的結合力較差
。曝光后堅膜的突出優點是能消除曝光時產生的駐波圖形和顯影前的部分
潛像。由于用了高反射率的襯底，駐波現象是一個普遍問題。按照抗蝕劑
中增感劑受熱后將重新分布的理論，曝光后堅膜確能消除駐波圖形，．改
善圖形的邊緣情況。-曝光后堅膜的唯一缺點是，與一般的方法相比，顯影
逮率略有降低
另一個技術是在顯影后和后烘之前使抗蝕荊曝光；顯影后曝光能使抗
蝕劑中的氮氣及早放出，使得抗蝕劑在后烘期間變得更致密。顯影后曝光
消除了在后烘期間由于氮氣的釋放而形成的針孔，保證了以后的刻蝕質量
。 ·一 。
典型盼顯影后曝光工藝是。涂敷，前烘，曝光(成像)，顯影，然后再
用短波長汞燈對抗蝕劑照射5一15s。這里關鍵的問題是保證顯影后曝光的
時間與用于成像的曝光時間相匹配。顯影后曝光齡突出優點是去膠方便，
大量的實踐已經證明，正性抗蝕劑的顯影后曝光大大簡化了去膠工藝。、
一般情況下正性抗蝕搿的前烘溫度較低，但已能基本保證抗蝕劑的粘附力
和抗蝕性能。
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